一、微束分析 能量色散x射线光谱学
GB/T 23413—2009 纳米材料晶粒尺寸及微观应变的测定X射线衍射线宽化法
GB/T 17359—2012 微束分析能谱法定量分析
二、微束分析电子背散射衍射
GB/T 19501—2013 微束分析 电子背散射衍射分析方法通则
GB/T 30703—2014 微束分析 电子背散射衍射取向分析方法导则
GB/T 34172—2017 微束分析 电子背散射衍射金属及合金的相分析方法
GB/T 38532—2020 微束分析 电子背散射衍射平均晶粒尺寸的测定
GB/T 41076—2021 微束分析 电子背散射衍射钢中奥氏体的定量分析
三、表面化学分析一般程序
GB/T 28894—2012 表面化学分析 分析前样品的处理
GB/T 29556—2013 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱横向分辨率、分析面积和分析器所能检测到的样品面积的测定
GB/T 30815—2014 表面化学分析 分析样品的制备和安装方法指南
GB/T 32565—2016 表面化学分析 俄歇电子能谱(AES)数据记录与报告的规范要求
GB/T 33502—2017 表面化学分析 X射线光电子能谱(XPS)数据记录与报告的规范要求
GB/T 34174—2017 表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序
四、表面化学分析 数据管理与处理
GB/T 19499—2004 表面化学分析 数据传输格式
GB/T 21007—2007 表面化学分析 信息格式
GB/T 36052—2018 表面化学分析 扫描探针显微镜数据传输格式
五、表面化学分析深度剖析
GB/T 20175—2006 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法
GB/T 29557—2013 表面化学分析 深度剖析 溅射深度测量
GB/T 32999—2016 表面化学分析 深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率
GB/T 34326—2017 表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法
GB/T 41064—2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
六、表面化学分析 二次离子质谱
GB/T 20176—2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
GB/T 22572—2008 表面化学分析 二次离子质谱 用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法
GB/T 25186—2010 表面化学分析 二次离子质谱 由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子
GB/T 32495—2016 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
GB/T 40129—2021 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准
GB/T 40109—2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
七、表面化学分析辉光放电光谱
GB/T 19502—2004 表面化学分析 辉光放电发射光谱方法通则
GB/T 22462—2008 钢表面纳米、亚微米尺度薄膜元素深度分布的定量测定 辉光放电原子发射光谱法
GB/T 29559—2013 表面化学分析 辉光放电原子发射光谱 锌和/或铝基合金镀层的分析
GB/T 32996—2016 表面化学分析 辉光放电发射光谱法分析 金属氧化物膜
GB/T 33236—2016 多晶硅 痕量元素化学分析 辉光放电质谱法
GB/T 32997—2016 表面化学分析 辉光放电发射光谱 定量成分深度剖析的通用规程
(共计33项国家标准，按标准体系排序)
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